x射線光電子能譜儀工作原理是 一定能量的X光映照到樣品外表，和樣品發(fā)作作用，能夠使樣品原子中的電子脫離原子成為自在電子，應(yīng)用能量剖析器，測得光電子的能量，最終取得樣品的組成。

X射線光電子能譜儀根本原理

X射線光子的能量在1000~1500 ev之間，不只可使分子的價電子電離而且也能夠把內(nèi)層電子激起出來，內(nèi)層電子的能級受分子環(huán)境的影響很小。同一原子的內(nèi)層電子分離能在不同分子中相差很小，故它是特征的。光子入射到固體外表激起出光電子，應(yīng)用能量剖析器對光電子停止剖析的實驗技術(shù)稱為光電子能譜。

XPS的原理是用X射線去輻射樣品，使原子或分子的內(nèi)層電子或價電子受激起射出來。被光子激起出來的電子稱為光電子。能夠丈量光電子的能量，以光電子的動能/約束能(binding energy，Eb=hv光能量-Ek動能-w功函數(shù))為橫坐標，相對強度(脈沖/s)為縱坐標可做出光電子能譜圖。從而取得試樣有關(guān)信息。X射線光電子能譜因?qū)瘜W剖析最有用，因而被稱為化學剖析用電子能譜。

深圳X射線光電子能譜機構(gòu)

X射線光電子能譜儀特性

XPS作為一種現(xiàn)代剖析辦法，具有如下特性:

(1)能夠剖析除H和He以外的一切元素，對一切元素的靈活度具有相同的數(shù)量級。

(2)相鄰元素的同種能級的譜線相隔較遠，互相干擾較少，元素定性的標識性強。

(3)可以觀測化學位移?；瘜W位移同原子氧化態(tài)、原子電荷和官能團有關(guān)?；瘜W位移信息是XPS用作構(gòu)造剖析和化學鍵研討的根底。

(4)是一種高靈活超微量外表剖析技術(shù)。樣品剖析的深  度約2 nm，信號來自外表幾個原子層，樣品量可少至10-8g，絕 對靈活度可達10-18g。

X射線光電子能譜儀的應(yīng)用

XPS主要應(yīng)用是測定電子的分離能來審定樣品外表的化學性質(zhì)及組成的剖析，其特性在光電子來自外表10nm以內(nèi)，僅帶出外表的化學信息，具有剖析區(qū)域小、剖析深 度淺和不毀壞樣品的特性，普遍應(yīng)用于金屬、無機資料、催化劑、聚合物、涂層資料礦石等各種資料的研討，以及腐蝕、摩擦、光滑、粘接、催化、包覆、氧化等過程的研討。