今后，廢水處理技能水平將不斷進步，在出水水質(zhì)、出資成本、運轉(zhuǎn)辦理、適用性等方面將有更多優(yōu)勢，在污水再生回用方面具有更多的運用空間。 　半導體的出產(chǎn)需求經(jīng)過8個首要工序。超純水首要用于半導體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片?；蛟S，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

超純水既將水中的導電介質(zhì)簡直徹底去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。這種水中除了水分子外，簡直沒有什么雜質(zhì)，更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素，也就是簡直去除氧和氫以外所有原子的水。電阻率大于18M Ω*cm，或接近18.3M Ω*cm極限值(25℃)。

超純水處理是一般工藝很難到達的程度，萊特萊德選用預處理、反滲透技能、靶向離子交換體系以及后級處理四大步驟，獨有的靶向離子交換體系針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子可以穩(wěn)定≤5ppt。