今后，廢水處理技能水平將不斷進(jìn)步，在出水水質(zhì)、出資成本、運(yùn)轉(zhuǎn)辦理、適用性等方面將有更多優(yōu)勢(shì)，在污水再生回用方面具有更多的運(yùn)用空間。 　半導(dǎo)體的出產(chǎn)需求經(jīng)過(guò)8個(gè)首要工序。超純水首要用于半導(dǎo)體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開(kāi)晶圓并用超純水清洗剩余碎片?；蛟S，在離子注入過(guò)程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開(kāi)。

　超純水是一種用于半導(dǎo)體制作過(guò)程中的洗滌劑。那么，在半導(dǎo)體出產(chǎn)中運(yùn)用超純水會(huì)有什么影響呢?在用納米超精密工藝處理半導(dǎo)體時(shí)，假如在各種工藝前后留下一個(gè)小顆粒，則會(huì)導(dǎo)致差錯(cuò)。因而，在各種工藝前后用超純水清洗晶圓可以保證清潔度并進(jìn)步半導(dǎo)體出產(chǎn)率(輸出)。

超純水處理是一般工藝很難到達(dá)的程度，萊特萊德選用預(yù)處理、反滲透技能、靶向離子交換體系以及后級(jí)處理四大步驟，獨(dú)有的靶向離子交換體系針對(duì)超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子可以穩(wěn)定≤5ppt。