今后，廢水處理技能水平將不斷進步，在出水水質(zhì)、出資成本、運轉(zhuǎn)辦理、適用性等方面將有更多優(yōu)勢，在污水再生回用方面具有更多的運用空間。 　半導體的出產(chǎn)需求經(jīng)過8個首要工序。超純水首要用于半導體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片?；蛟S，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

　超純水是為了研制超純資料(半導體原件資料、納米精密陶瓷資料等)運用蒸餾、去離子化、反滲透技能或其它適當?shù)某R界精密技能出產(chǎn)出來的水，不宜飲用。 　　這樣的水是一般工藝很難到達的程度，應該運用超純水設(shè)備進行制備。專業(yè)的超純水設(shè)備由預處理(多介質(zhì)過濾+超濾設(shè)備)體系+反滲透體系+EDI電除鹽體系+拋光混床體系組成，保證出水水質(zhì)滿足18.2MΩ·cm電子級水產(chǎn)水指標。

超純水既將水中的導電介質(zhì)簡直徹底去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。這種水中除了水分子外，簡直沒有什么雜質(zhì)，更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素，也就是簡直去除氧和氫以外所有原子的水。電阻率大于18M Ω*cm，或接近18.3M Ω*cm極限值(25℃)。