在等離子體蝕刻工藝中，也稱為干蝕刻，使用等離子體或蝕刻氣體來去除襯底材料，干蝕刻會產(chǎn)生氣態(tài)產(chǎn)物，這些產(chǎn)物應(yīng)擴(kuò)散到大量氣體中并通過真空系統(tǒng)排出，干蝕刻有三種類型（例如等離子蝕刻）：化學(xué)反應(yīng)（通過使用反應(yīng)性等離子體或氣體），物理去除（通常通過動量傳遞）以及化學(xué)反應(yīng)和物理去除的組合，干蝕刻：利用不易被物理、化學(xué)作用破壞的物質(zhì)光阻來阻擋不欲去除的部分，利用電漿的離子轟擊效應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)去掉想去除的部分，從而將所需要的線路圖形留在玻璃基板上。

傳統(tǒng)的蝕刻工藝因?yàn)榇嬖诩夹g(shù)落后、生產(chǎn)成本高、嚴(yán)重的污染問題，guo家在環(huán)保政策的要求下強(qiáng)勢淘汰傳統(tǒng)工藝，整個(gè)蝕刻行業(yè)亟需解決行業(yè)升級、技術(shù)換代的問題，且迫在眉睫，蝕刻優(yōu)版創(chuàng)新技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生，微加工過程中有很多加工步驟，現(xiàn)代工藝上，不銹鋼蝕刻板針對高精密、精細(xì)化的產(chǎn)品上無法滿足，其蝕刻工藝手段非常適用對精密化產(chǎn)品，比如汽車機(jī)械部件、墊片和間隔墊圈、高性能密封墊片、各種過濾網(wǎng)片，電動汽車電池片，汽車?yán)染W(wǎng)上均采用蝕刻工藝。

現(xiàn)在可以對涂覆的晶片進(jìn)行濕法蝕刻以將所需的圖案雕刻到晶片中，各向同性蝕刻，即在所有方向上均相等的蝕刻，是指基材的方向不影響蝕刻劑去除材料的方式，如果允許蝕刻劑反應(yīng)足夠長的時(shí)間，如圖1所示，蝕刻劑將蝕刻掉稱為掩模底切的掩模下的基板材料，可以通過在底切掩模前先沖洗掉蝕刻劑，然后在通道上施加光刻膠來避免這種情況，加工出來的產(chǎn)品沒有毛刺，沒有臟污，表面更是光滑，蝕刻加工是其他機(jī)械的工藝都無法加工的高精密產(chǎn)品。